'반도체 리더' 삼성전자, EUV 기반 5나노 공정 개발 성공
'반도체 리더' 삼성전자, EUV 기반 5나노 공정 개발 성공
  • 변동진
  • 승인 2019.04.16 15:44
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7나노 대비 로직 면적 25% 축소… 전력효율 20%·성능 10% ↑
7나노 이달 중 출하… 6나노 설계 완료
삼성전자 서초사옥. /사진=픽사베이
삼성전자 서초사옥. /사진=픽사베이

[스마트경제] 삼성전자가 EUV(극자외선) 기술을 기반으로 ‘5나노 공정’ 개발에 성공했다. 또 이달 안에 7나노 제품을 출하하고, 올해 내에 양산을 목표로 6나노 제품 설계를 완료했다.

16일 삼성전자에 따르면 이번에 개발한 차세대 ‘5나노 공정’은 셀 설계 최적화를 통해 기존 7나노 공정 대비 로직 면적을 25% 줄일 수 있다. 20% 향상된 전력 효율 또는 10% 향상된 성능을 제공한다.

특히 7나노 공정에 적용된 설계 자산(IP)을 활용할 수 있어 관련 고객들은 5나노 공정의 설계비용을 줄일 수 있다.

◆7나노 이달 중 출하… 6나노 설계 완료해 연내 양산 계획

삼성전자는 올해 초 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 제품 양산을 시작했다. 본격 출하는 이달 중 진행될 것으로 전망된다.

6나노 공정 기반 제품에 대해서는 대형 고객과 생산 협의를 진행하고 있다. 설계가 완료된 만큼 올 하반기 양산할 예정이다.

이번 초미세 공정의 기반이 된 EUV 기술은 기존 ‘불화아르곤(ArF)’보다 파장의 길이가 짧은 EUV 광원을 사용, 더욱 세밀한 반도체 회로를 구현할 수 있는 것이 특징이다. 이로 인해 회로를 새기는 작업을 반복하는 ‘멀티 패터닝’(Multi-Patterning) 공정을 줄여 성능과 수율을 높일 수 있다.

삼성전자 화성캠퍼스 EUV 라인 전경. /사진=삼성전자
삼성전자 화성캠퍼스 EUV 라인 전경. /사진=삼성전자

◆멀티 프로젝트 웨이퍼·에코시스템 지원… 국내 시스템반도체 생태계 강화

삼성전자는 첨단 초미세 공정 파운드리 생산의 핵심 기술을 확보함에 따라 국내 시스템 반도체 생태계 및 역량이 강화될 것으로 업계는 전망한다.

파운드리 사업은 반도체 장비와 소재, 디자인, 패키징, 테스트 등 다양한 전문 업체들이 함께 성장해야 한다는 점으로 고려하면 전후방 연관 효과가 크다.

삼성전자는 1장의 웨이퍼에 여러 종류의 반도체 제품을 생산하는 ‘MPW(Multi Project Wafer) 서비스’를 최신 5나노 공정까지 확대 제공할 예정이다. 고객들은 편리하게 최첨단 반도체를 제작할 수 있다.
 
또한 파운드리 지원 프로그램인 ‘SAFE TM(Samsung Advanced Foundry Ecosystem)’를 통해 설계 IP 외에도 공정 설계 키트(PDK), 설계 방법론(DM), 자동화 설계 툴(EDA) 등 5나노 공정 기반 제품 설계를 돕는 디자인 인프라를 제공한다.

배영창 삼성전자 파운드리사업부 전략마케팅팀 부사장은 “5G와 AI(인공지능), 전장 등 신규 응용처를 중심으로 높은 수요가 예상된다”며 “향후에도 첨단 공정 솔루션으로 미래 시스템 반도체 산업을 이끌어 나갈 것”이라고 밝혔다.

 

변동진 기자 bdj@dailysmart.co.kr


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